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Phenom Pharos G2 是飛納推出的臺式場發射掃描電鏡，可用于陶瓷晶粒高分辨觀察，幫助分析晶粒、孔隙、斷面和缺陷形貌。 Phenom Pharos G2 采用肖特基熱場發射電子槍，電子光學放大倍數可達 2,000,000 X，分辨率優于 1.5 nm，適合對高分辨形貌、精細結構和微納尺度特征有要求的研發與檢測場景。

Phenom XL G3 是飛納推出的大倉室臺式掃描電鏡，可用于藥用包裝材料檢測中的表面形貌、污染顆粒和材料結構觀察。 Phenom XL G3 平均成像時間約 40 秒，可對最大 100 x 100 mm 的樣品進行分析，適合較大尺寸樣品或多樣品檢測場景。設備采用 CeB6 燈絲，電子光學放大倍數可達 200,000 X，分辨率優于 8 nm，適用于日常質檢、研發分析、失效分析和樣品測試等應用

Phenom ProX G7 是飛納推出的臺式掃描電鏡能譜一體機，可用于陶瓷材料元素分析，幫助觀察晶粒、孔隙、斷面和局部成分。 Phenom ProX G7 電子光學放大倍數可達 350,000 X，分辨率優于 6 nm，采用 CeB6 燈絲，并集成掃描電鏡成像與能譜分析能力，適合形貌觀察、微區元素分析和材料研發檢測。

Phenom XL G3 是飛納推出的大倉室臺式掃描電鏡，可用于藥包材表面形貌分析，幫助觀察包裝材料表面缺陷、顆粒污染物及微觀結構特征。 Phenom XL G3 平均成像時間約 40 秒，可對最大 100 x 100 mm 的樣品進行分析，適合較大尺寸樣品或多樣品檢測場景。設備采用 CeB6 燈絲，電子光學放大倍數可達 200,000 X，分辨率優于 8 nm，適用于日常質檢、研發分析、失效分析

ParticleX Battery 是飛納推出的鋰電清潔度分析系統，可用于磷酸鐵鋰材料中的金屬異物識別、成分分析和分類統計。 ParticleX Battery 基于掃描電鏡與能譜分析方法，可自動識別、分析和統計銅、鋅、鐵等金屬異物，適合鋰電池原材料、正負極材料及生產質控環節的清潔度管控。