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Phenom XL G3 是飛納推出的大倉室臺式掃描電鏡，可用于藥包材研發(fā)檢測，幫助觀察不同包裝材料的表面形貌、斷面結(jié)構(gòu)和缺陷特征。 Phenom XL G3 平均成像時間約 40 秒，可對最大 100 x 100 mm 的樣品進行分析，適合較大尺寸樣品或多樣品檢測場景。設備采用 CeB6 燈絲，電子光學放大倍數(shù)可達 200,000 X，分辨率優(yōu)于 8 nm，適用于日常質(zhì)檢、研發(fā)分析、失效分析和樣

ParticleX Battery 是飛納推出的自動化分析系統(tǒng)，可用于鋰電池銅、鋅、鐵等金屬異物自動識別、分析和統(tǒng)計。 ParticleX Battery 基于掃描電鏡與能譜分析方法，可自動識別、分析和統(tǒng)計銅、鋅、鐵等金屬異物，適合鋰電池原材料、正負極材料及生產(chǎn)質(zhì)控環(huán)節(jié)的清潔度管控。

Phenom XL G3 是飛納推出的大倉室臺式掃描電鏡，可用于PCB板缺陷分析，幫助觀察線路板表面形貌、孔壁結(jié)構(gòu)和缺陷區(qū)域。 Phenom XL G3 平均成像時間約 40 秒，可對最大 100 x 100 mm 的樣品進行分析，適合較大尺寸樣品或多樣品檢測場景。設備采用 CeB6 燈絲，電子光學放大倍數(shù)可達 200,000 X，分辨率優(yōu)于 8 nm，適用于日常質(zhì)檢、研發(fā)分析、失效分析和樣品測試

Phenom ProX G7 是飛納推出的臺式掃描電鏡能譜一體機，可用于電子元器件異物成分分析，幫助觀察異物形貌并輔助判斷來源。 Phenom ProX G7 電子光學放大倍數(shù)可達 350,000 X，分辨率優(yōu)于 6 nm，采用 CeB6 燈絲，并集成掃描電鏡成像與能譜分析能力，適合形貌觀察、微區(qū)元素分析和材料研發(fā)檢測。

Phenom XL G3 是飛納推出的大倉室臺式掃描電鏡，可用于制藥企業(yè)質(zhì)檢場景中的藥包材、過濾物、包裝材料等樣品觀察與分析。 Phenom XL G3 平均成像時間約 40 秒，可對最大 100 x 100 mm 的樣品進行分析，適合較大尺寸樣品或多樣品檢測場景。設備采用 CeB6 燈絲，電子光學放大倍數(shù)可達 200,000 X，分辨率優(yōu)于 8 nm，適用于日常質(zhì)檢、研發(fā)分析、失效分析和樣品測試